飛納桌面電鏡 臺式大倉室自動化掃描電鏡

Phenom XL G3  質(zhì)量控制自動化，多功能臺式掃描電鏡

80 年電鏡技術(shù)傳承

從飛利浦、FEI到賽默飛，源自全球電鏡的成熟設(shè)計(jì)與制造工 藝，穩(wěn)定可靠

無需改實(shí)驗(yàn)室 - 省錢省空間

不挑安裝環(huán)境，內(nèi)置減震系統(tǒng)，可直接放置于生產(chǎn)車間、高樓層 QC實(shí)驗(yàn)室等

面向工業(yè) 4.0 的自動化與 AI 智能掃描電鏡

開放編程接口，打造定制化的“黑燈實(shí)驗(yàn)室"檢測流程，支持 Maps 地 圖式多模態(tài)、多維度自動拼圖及關(guān)聯(lián)

平均 5 年更換燈絲

3000h CeB6  晶體燈絲，減少維護(hù)頻率和降低使用成本，讓產(chǎn)線 或?qū)嶒?yàn)室長期穩(wěn)定運(yùn)行無憂

低電壓成像功能

對于不導(dǎo)電、導(dǎo)電性差、以及電子束敏感樣品，不噴金，仍具有成像能力

電鏡能譜一體化設(shè)計(jì) - 服務(wù)全包，省心省力

簡化采購流程，統(tǒng)一售后服務(wù)。軟件和硬件深度兼容，無需切換軟件。 ChemiSEM彩色成像,實(shí)時(shí)能能譜面掃、相分析、大面積能譜拼圖等 

80 年電鏡技術(shù)傳承

飛納電鏡從飛利浦到賽默飛，歷經(jīng)近 80 年技術(shù)沉淀，從最初的構(gòu)想與商業(yè)化，到不斷的技術(shù)創(chuàng)新與突破，始終在電子顯微鏡領(lǐng)域保 持領(lǐng)(LING）先地位。

 1      飛利浦時(shí)期（1939-1996）

•    起源：1939  年，Le  Poole  提出電子顯微鏡構(gòu)想，1944  年成功開發(fā)  150kV 電子顯微鏡，奠定技術(shù)基礎(chǔ)。

•    發(fā)展：1949   年推出第一臺商業(yè)化電鏡   EM100。后續(xù)不斷推出創(chuàng)新產(chǎn)品，如 1972 年進(jìn)入 SEM 市場，推出 PSEM500。 

 2     FEI 時(shí)期（1996-2016）   

•  合并：1997年，飛利浦電子光學(xué)業(yè)務(wù)與FEI合并，獲得 ESEM 技術(shù)，技術(shù)實(shí)力增強(qiáng)。 

•  創(chuàng)新：2006年推出臺式掃描電鏡飛納（Phenom），放大倍數(shù)  10000  倍，使用  1500h  長壽命  CeB6    燈絲。

2013 年推出第三代產(chǎn)品，分辨率 17nm，放大倍數(shù) 100000 倍。 

 3    賽默飛時(shí)期（2016-至今） 

•  收購：2016 年，F(xiàn)EI 被賽默飛收購，2018 年 Phenom World 更名為 Thermo Scienti?c 品牌。

•   傳承與發(fā)展：技術(shù)上繼承 FEI 創(chuàng)新成果，繼續(xù)提升性能，目前除了 CeB6 燈絲系列，還有臺式場發(fā)射電鏡系列，公安法醫(yī)等 特定領(lǐng)域?qū)Ｓ秒婄R，產(chǎn)品線豐富，型號達(dá)數(shù)十種。

 平均 5 年更換燈絲

桌面電鏡 臺式大倉室自動化掃描電鏡擁有超長壽命核心部件，采用 3000 小時(shí)高亮度六硼化鈰（CeB6）燈絲，平均 5 年更換燈絲，確保設(shè)備 7×24 小時(shí)連續(xù)運(yùn)行，減 少維護(hù)頻率和持有成本，讓產(chǎn)線或?qū)嶒?yàn)室長期穩(wěn)定運(yùn)行無憂。

不挑安裝環(huán)境，內(nèi)置減震系統(tǒng)，可直接放置于生產(chǎn)車間、高樓層  QC  實(shí)驗(yàn)室等，甚至可以車載，野外場景使用。節(jié)省實(shí)驗(yàn)室改造 費(fèi)用，真正做到“買得起，更能用得好"。

飛納電鏡曾經(jīng)參與冰島火山口、西班牙無人島等科學(xué)研究項(xiàng)目，是適用于惡劣環(huán)境的便攜掃描電鏡。科研人員采集樣本回到帳篷 中，利用飛納電鏡來確定樣本的化學(xué)構(gòu)成，極大地提高了樣本采集和分析的效率。

低電壓成像功能 

PhenomXL G3 配備了全新升級真空設(shè)計(jì)和背散射探測器 (BSD)，優(yōu)化了低電壓下的靈敏度，提升了總體的信噪比 (S/N)，對于不 導(dǎo)電、導(dǎo)電性差、以及電子束敏感樣品，可以使用更低的束流進(jìn)行拍攝，提升分辨率的同時(shí)，降低荷電效應(yīng)帶來的影響。

由于整體信噪比的提升，我們可以使用更短的采集時(shí)間采集同樣質(zhì)量的照片，在自動化工作流程中，高通量照片拍攝的總效率平均提升 30%。

太陽能電池金字塔結(jié)構(gòu)

 放大倍數(shù)：10,000X

 2kV，未噴金，二次電子像

 可以清晰看到金字塔結(jié)構(gòu)和細(xì)節(jié)

電子陶瓷

 放大倍數(shù)：1,000X

 5kV，背散射電子像

 可以觀測到陶瓷內(nèi)晶粒大小和空隙 

CMOS 探測器

 放大倍數(shù)：5,000X

 2kV，二次電子像

 可以清晰看到像素單元及其表面污染物

掃描電鏡下未噴金的纖維（上圖），未噴金的紙張（下圖）

面向工業(yè) 4.0 的自動化與 AI 智能掃描電鏡

從裝樣到出圖，僅需 1 分鐘，高測試效率，操作員無需漫長等待，檢測通量比傳統(tǒng)電鏡提升 5-10 倍，極大加速了 QC 判斷和研發(fā)迭代。

  *的拓展軟件

從“看"到“算"：專業(yè)的自動化分析軟件，ParticleMetric   (顆粒統(tǒng)計(jì))、Fiber- Metric (纖維統(tǒng)計(jì)) 等專用軟件。自動化完成需要人工數(shù)小時(shí)才能完成的顆粒 度、形貌、尺寸分布等統(tǒng)計(jì)工作，輸出標(biāo)準(zhǔn)化報(bào)告，實(shí)現(xiàn)真正的量化品控。

  開放編程接口，打造定制化檢測流程

“深度集成，隨需而變"：開放的自動化接口，提供 Python 腳本控制 (PPI)，可以無 縫集成到客戶現(xiàn)有的自動化產(chǎn)線和 LIMS 系統(tǒng)中。精準(zhǔn)的自動化馬達(dá)臺，結(jié)合軟件 腳本，一次可容納 36 個樣品，打造“無人值守的質(zhì)檢工廠"，自定義設(shè)定程序，在夜 間或休息時(shí)間對大批量樣品進(jìn)行自動拍照和分析，提高設(shè)備利用率。

  一 張圖看全貌，多點(diǎn)分析無遺漏

在晶圓、濾膜、金屬斷口等大樣品上，自動獲取全景高清圖，并對預(yù)設(shè)的關(guān)鍵點(diǎn)位進(jìn)行高倍率分析，確保檢測。

電鏡能譜一體化設(shè)計(jì) - 服務(wù)全包，省心省力

簡化采購流程，統(tǒng) 一 售后服務(wù)。軟件和硬件深度兼容，無需切換軟件，提高研究效率。ChemiSEM彩色成像,實(shí)時(shí)能能譜面掃、相分 析、大面積能譜拼圖等

ChemiSEM 彩色成像技術(shù)

EDS   能譜儀在電鏡工作時(shí)始終在后臺收集成分?jǐn)?shù)據(jù)，利用算法同時(shí)處理   BSE   和  EDS 信號，從而可以實(shí)時(shí)顯示樣品的形態(tài)和定量元素分布結(jié)果。簡化對金屬、陶瓷、 電池、涂層和軟材料等多種材料的復(fù)雜分析。

  ChemiPhase 物相分析軟件

飛納電鏡 ChemiPhase 物相分析軟件是 ChemiSEM 技術(shù)中一種新型物相鑒定和定 量表征手段，旨在通過結(jié)合先進(jìn)的統(tǒng)計(jì)分析和 ChemiSEM SEM-EDS 平臺來識別物相，并識別成分列出其面積分?jǐn)?shù)，從而應(yīng)對這些挑戰(zhàn)。

  Phenom MAPS 大面積圖像拼接

通過層級的方式，實(shí)現(xiàn)對樣品的拍攝與數(shù)據(jù)回看。Phenom MAPS 提供的是一個涵 蓋所有樣品信息的數(shù)碼存檔，從宏觀到微觀無所不包，變革了傳統(tǒng)掃描電鏡的 分析與數(shù)據(jù)存儲模式。并且，多圖層數(shù)據(jù)可以包含能譜。 

  從元素到材料的飛躍：相分布圖 (Phase Mapping)

專有的在線相分析軟件模塊 (Phase Mapping) ，利用*的算法，根據(jù)每個像素點(diǎn)的元素定量結(jié)果，自動識別、分類并標(biāo)定出不同的 “相"或“化合物"。

規(guī)格參數(shù)

成像模式

• 光學(xué)顯微鏡：放大倍數(shù)：3 - 16 x

•  電子顯微鏡：放大倍數(shù)：200,000 x

照明

• 光學(xué)：明場和暗場模式

•  電子光學(xué)：長壽命、高亮度的 CeB6 燈絲

• 加速電壓： 基本模式：2 kV, 5 kV, 10 kV, 15kV 和 20kV

高級模式：4.8  kV - 20.5  kV 連續(xù)可調(diào)，用 于成像和元素分析

• 真空水平：低-中-高三種模式 優(yōu)于 8 nm

• 分辨率： 優(yōu)于 8 nm

• 抽真空時(shí)間：30s